TSMC가 ASML의 차세대 High-NA EUV 장비 도입을 2029년까지 보류한다. 대당 €3.5억 이상의 가격이 부담이다. ASML 주가 3.7% 하락.
TSMC가 ASML의 차세대 High-NA EUV 노광 장비 도입을 2029년까지 보류한다고 밝혔다. 부사장 Kevin Zhang은 대당 3.5억 유로 이상인 가격을 “매우, 매우 비싸다”고 평가했다.
TSMC는 2029년 양산 예정인 A13 노드를 기존 EUV 장비로 생산할 계획이다. High-NA EUV 없이도 차세대 공정이 가능하다는 자신감이다. 발표 후 ASML 주가는 3.7% 하락했다.
ASML의 최대 고객이 최신 장비를 보류한 것은 의미가 크다. 반도체 장비 업계의 성장 시나리오에 불확실성이 커졌다. 기술은 있지만 가격이 따라오지 못하는 역설이다.
ASML의 차세대 노광 장비로, 기존 EUV보다 더 미세한 패턴을 새길 수 있다. 2nm 이하 공정에 필요한 핵심 장비로 여겨진다.
대당 3.5억 유로(약 5,000억 원) 이상이다. TSMC 부사장은 '매우, 매우 비싸다'고 직접 언급했다. 기존 EUV로도 A13 노드를 생산할 수 있다는 판단이다.
ASML은 High-NA EUV의 2027~28년 양산을 목표로 했다. 최대 고객 TSMC의 보류는 판매 계획에 큰 타격이다.
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